PDA

توجه ! این یک نسخه آرشیو شده میباشد و در این حالت شما عکسی را مشاهده نمیکنید برای مشاهده کامل متن و عکسها بر روی لینک مقابل کلیک کنید : مقاله 79: مقایسه ساختار و مورفولوژی لایه های نازک cu بر زیرلایه GaAs در روش های الکتروانباشت و الکترولس



samane.metal
2015/08/10, 00:02
در این تحقیق لایه های نازک مس بر روی زیرلایه گالیم آرسناید نوع n به دو روش الکتروانباشت و الکترولس رشد داده شدند. سپس پارامترهای زبری لایه های الکتروانباشت شده در جریان های مختلف انباشت و همچنین زبری لایه های الکترولس شده در دماهای مختلف مطالعه و با هم مقایسه می شود.